一、 目的
本设备利用反射干涉的原理进行无损测量，测量吸收或者透明衬底上薄膜的厚度以及折射率，同时提 供样品反射率，测量精度达到埃级的分辨率，测量迅速，操作简单，界面友好，测量时间不到 1 秒。可应 用于光阻、半导体材料、高分子材料等薄膜层的厚度测量，在半导体、太阳能、液晶面板和光学行业以及 科研院所和高校都得到了广泛的应用和极大的好评。
二、测量系统规格
反射膜厚仪 技术参数
1 、 SR-C 规格：
1) 基本功能：获取薄膜厚度值以及 R 、N/K 等光谱
2) 光谱分析范围：380nm-1000nm
3) 测量光斑大小：标准 1.5mm ，最小 0.5mm
4) 膜厚重复性测量精度：0.02nm（100nm 硅基 SiO2 样件，100 次重复测量）
5) 膜厚绝对精度：0.2%或 2nm 之间较大者
6) 膜厚测量范围：15nm-70μm
7) 测量 n 和 k 值厚度要求：100nm 以上
8) 单点测量时间：≤ 1s
9) 光源：标准卤灯光源
10) 分析软件：多达数百种的光学材料常数数据库，并支持用户自定义光学材料 库；提供多层各向同性光学薄膜建模仿真与分析功能
图 1 反射膜厚仪 SR-C 实物参考图
2 、 样品台规格：
1) 基板尺寸：最大支持样件尺寸到 150*150mm(可升级定制不同尺寸样品台)
3 、 测控与分析软件
1) 光谱测量能力：反射率光谱测量
2) 数据分析能力：膜厚分析能力，光学常数（折射率和消光系数）
3) 支持常用光学常数模型以及常用振子模型（柯西模型、洛伦兹模型、高斯模 型等）；
4) 支持用户自定义，可授权离线分析软件模拟实际测量，支持 Windows 10 操
作系统
4 、 设备验收标准（按参数规格测试）
1) 光谱分析波段：380~1000nm
2) 测量光斑大小：标准 1.5mm，最小 0.5mm
3) 膜厚重复性测量精度：0.02nm（100nm 硅基 SiO2 样件，100 次重复测量）
4) 膜厚绝对精度：0.2%或 2nm 之间较大者
5) 膜厚测量范围：15nm-70 μm
5 、 测控与分析计算机
1) 操作系统：WIN10 64 位
2) CPU 处理器：Intel 酷睿 I5
3) 内存：≥4G
4) 硬盘：≥500G
5) 显示器：≥19 寸
6 、 配件
6) 标准 SiO2/Si 标样
7) 标准安装工具一套
7 、 环境要求
1) 承载台：尺寸>1.0m（长） ×0.7m（宽），承载能力大于 20Kg
2) 使用温度范围：20 ~ 26 ℃
3) 相对湿度：35% ~ 60% RH
4) 空气压力范围：750~1014 mbar
5) 洁净度： Class 1000
8 、 能源要求
1) 供电电源电压：220V AC
2) 正常频率范围：49-51Hz
3) 相电流：有效值小于 0.5A（ 220V AC ）
4) 功率：小于 110 W
9 、 涂装与表面处理
1) 涂装颜色：以黑白灰色为主
2) 表面处理：镀化学镍、阳极处理、烤漆等
